Mesin pelapis vakum sputtering magnetron

Mesin pelapis vakum sputtering magnetron

Sistem pelapisan vakum sputtering magnetron menggunakan ion berenergi tinggi untuk menyimpan lapisan tipis bahan ke substrat. Prosesnya cepat dan murah, dan menghasilkan lapisan kemurnian tinggi. Ion berenergi tinggi dilepaskan dari bahan sumber dan bertabrakan dengan gas inert, seperti argon. Ion -ion ini menghasilkan plasma dan atom dari bahan sumber dikeluarkan.

Mesin pelapis vakum sputtering magnetron umumnya digunakan dalam pembuatan perhiasan. Desain putar dan stasionernya dapat dengan mudah disesuaikan untuk memenuhi berbagai persyaratan pelapisan. Mesin ini cocok untuk melapisi semua substrat logam atau non-logam. Ini juga dapat digunakan untuk melapisi plastik, keramik, dan kaca kristal. Fitur-fitur kelas atas termasuk keseragaman yang baik dan tingkat deposisi yang cepat.

Sistem pelapisan vakum sputtering magnetron adalah alat yang kuat dan serbaguna untuk produksi volume tinggi. Bergantung pada kebutuhan dan penerapannya, teknik ini dapat membuat film tipis dengan berbagai properti yang diinginkan. Sistem daya, bahan, dan gas yang berbeda dapat digunakan untuk mengoptimalkan proses. Sebelum proses dimulai, substrat dipasang ke tempat. Pemegang kemudian melewati ruang kunci beban untuk mencegahnya bergerak.

Sistem pelapisan vakum ini adalah metode berbiaya rendah yang menghasilkan pelapis berkualitas tinggi dengan tingkat kelulusan yang tinggi. Ini sangat ideal untuk pembuatan penerbangan dan elektronik kelas atas. Ini juga dapat digunakan untuk pelapisan paduan dan film logam komposit. Ini adalah cara yang ekonomis dan efektif untuk melapisi banyak jenis bahan.

Sistem pelapisan vakum sputtering magnetron menggunakan sumber sputtering yang memanfaatkan kurungan elektron. Magnet menjebak elektron pada permukaan target, menghasilkan kepadatan plasma yang lebih tinggi dan laju pengendapan yang lebih tinggi. Tidak seperti metode sputtering konvensional, teknik ini aman dan tidak menyebabkan kerusakan pada objek pelapisan.

Gas sputtering yang digunakan dalam proses adalah pertimbangan penting. Jenis gas yang akan digunakan tergantung pada berat atom substrat. Misalnya, bahan yang lebih ringan mendapat manfaat dari penggunaan neon atau xenon. Jika ruang mengandung oksigen, prosesnya akan reaktif.

Proses sputtering melibatkan memperlihatkan bahan target ke gas reaktif. Gas -gas ini bereaksi dengan bahan target dan membuat senyawa molekul. Bahan tersebut kemudian disimpan sebagai lapisan film tipis. Misalnya, ketika target silikon secara reaktif tergagap dengan oksigen atau nitrogen, ia menghasilkan silikon oksida atau silikon nitrida. Metode ini sering digunakan untuk melapisi banyak bahan secara bersamaan.

Mesin pelapis sputtering magnetron

Lapisan ion & sputtering multi-arc dapat disimpan dalam berbagai warna. Rentang warna dapat ditingkatkan lebih lanjut dengan memasukkan gas reaktif ke dalam ruang selama proses pengendapan. Gas reaktif yang banyak digunakan untuk pelapis dekoratif adalah nitrogen, oksigen, argon atau asetilena. Lapisan dekoratif diproduksi dalam rentang warna tertentu, tergantung pada rasio logam-terhadap-gas dalam lapisan dan struktur lapisan. Kedua faktor ini dapat diubah dengan mengubah parameter deposisi.

Sebelum deposisi, bagian -bagian dibersihkan sehingga permukaan bebas dari debu atau kotoran kimia. Setelah proses pelapisan dimulai, semua parameter proses yang relevan terus dipantau dan dikendalikan oleh sistem kontrol komputer otomatis.

• Bahan substrat: kaca, logam (baja karbon, baja tahan karat, kuningan), keramik, plastik, perhiasan.

• Jenis Struktur: Struktur Vertikal, #304 Stainless Steel.

• Film Coating: Film Metal Multi-Fungsional, Film Komposit, Film Konduktif Transparan, Film yang Meningkat Reflektansi, Film Perisai Elektromagnetik, Film Dekoratif.

• Warna film: multi warna, pistol hitam, warna emas titanium, warna emas mawar, warna stainless steel, warna ungu, hitam gelap, biru tua dan warna lainnya lainnya.

• Jenis film: timah, crn, zrn, ticn, ticrn, tinc, tialn dan dlc.

• bahan habis pakai dalam produksi: titanium, kromium, zirkonium, besi, target paduan; target pesawat, target silindris, target kembar, target berlawanan.