Penerapan sputtering magnetron- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Penerapan sputtering magnetron

Magnetron Sputtering adalah metode yang efisien untuk deposisi suhu rendah dalam teknologi PVD. Selama sputtering magnetron, elektron diserap oleh penutup medan gelap atau anoda yang terpasang khusus, dan suhu substrat yang diperoleh lebih rendah daripada sputtering tradisional. Bahan sensitif suhu lainnya diendapkan sebagai substrat. Pada tahun 1998, Teel Coating Ltd. mengusulkan teknologi untuk menyetor pelapis timah dan ticn berkualitas tinggi dengan sputtering magnetron pada suhu rendah, dan suhu substrat dapat diturunkan menjadi kurang dari 70 ° C, sehingga memperluas rentang aplikasi yang mungkin dari pelapis yang sama. Dalam beberapa tahun terakhir, Loughborough University di Inggris telah berhasil mengurangi suhu substrat selama sputtering magnetron dari 350 menjadi 500 ° C menjadi sekitar 150 ° C pada suhu kamar, dan berhasil menerapkan pelapis timah dan CRN pada permukaan cetakan gigi buatan dan tembaga permukaan landding head head peningkatan kehidupan layanannya dengan 5 hingga 10 kali. Dapat dilihat bahwa penelitian tentang metode dan proses pengendapan suhu rendah sangat bermakna dan menjanjikan.